今天上午9點50分，萊特萊德10T/h超純水設備已裝載至江蘇鹽城。公司基本形成了以石墨烯顯示材料、彩色濾光片、高鋁蓋板玻璃等新型顯示材料為核心的產業集群。因此，公司對生產用水水質的電阻率要求大于18.MΩ·CM。通過大量的調查和訪問，然后選擇與萊特萊德達成合作共識。

　　本次項目超純水設備主要包含：反滲透+EDI+拋光混床

　　原水經過雙級反滲透設備后，通過TOC脫離器降解有機物，然后進入EDI模塊，水質可達15mΩ·CM以上，然后通過二次TOC脫除器深度降級TOC，將產水TOC降低到3ppb以下，然后進入脫氣膜去除溶解氧，然后進入核子級混床，使水質達到18.2mΩ·CM。

　　萊特萊德超純水設備主要采用反滲透+EDI+拋光混合床相結合技術，產水可達18兆歐以上，出水水質完全符合半電子廠的用水標準。該設備具有結構合理、簡單、連續運行、操作方便、自動化程度高、使用壽命長、自動化運行、占地面積小、出水水質高等優點。

　　超純水設備的組成如下：

　　1、預處理系統。原水增壓泵出口采用UPVC，高壓部分采用304不銹鋼。

　　2、超濾系統。據原水水質、回收率及產水量等因素確定膜組件的組合方式。

　　3、軟化系統。軟化器采用自動閥進行控制，同時也可根據需要切換到手動。

　　4、反滲透裝置。反滲透裝置壓力容器的數量、排列方式及運行壓力由供方根據根據實際原水水質報告計算確定。

　　近年來，由于半導體在生產過程中對設計的需求朝著更精確、更細小的趨勢發展，因而對純水水質的要求也越趨嚴格。萊特萊德將水中的二氧化硅、顆粒物、細菌、有機物和微生物一并給予有限度的去除達到完全純凈程度的水質，常被應用在電子行業。